半导体

精密光学系统在半导体制造中扮演着关键角色，主要集中在半导体光刻和检测领域。受益于科研及先进制造行业快速增长、半导体领域不断提高精度以及轻量化要求，其趋势是特征尺寸持续减小，但设计复杂性增加,  但是不变的是对尖端检测工具的依赖，这些工具能够准确、精确地检测以高通量、重复且可靠的方式检查晶圆。

这些工具需要精密的定制光学器件和光学组件（例如显微镜物镜）来组成不同的光学子系统服务于光刻机的制程控制和半导体检测设备的质量控制，为实现亚纳米级别的制程要求提供必不可少的技术支持。

在半导体光刻机中，光学系统包括光源、光学镜头和双工作台系统，直接影响光刻机的分辨率、制程、速度和良率。这对于制备高度集成、高分辨率的芯片至关重要。在光刻过程中，精密光学系统通过光束整形、照明系统和曝光系统等功能，确保将设计图案精准地转移到芯片表面，实现微小结构的制备。

同时，在半导体检测中，光学系统用于检测和量测晶圆表面或电路结构，保障制程的完美执行，防止产生致命缺陷。光学检测技术广泛应用于半导体检测设备中，其优势在于高速度、高灵敏度、广泛适用性等。