离子束抛光
什么是离子束抛光
IBF抛光具有很高的精度和控制能力，可实现低至单纳米的极高精度，适用于对表面质量和厚度要求极高的光学器件的加工。
与机械抛光不同，IBF是一种非接触式工艺，适用于多种材料，包括金属、半导体、陶瓷等，特别适合对机械切割敏感的材料。 加工前，需要用干涉仪测量表面形状误差。 根据该表面轮廓，离子束蚀刻系统的软件计算每个基板的单独停留时间图，并创建处理配方。
离子束整形方法使用离子枪用离子轰击光学表面，从而以高度控制和精确的方式去除材料。 可抛光直径达数千毫米的定制光学器件，精度高、误差小、无亚表面或边缘缺陷。高度加速的离子带着相当大的动能到达表面，使原子从靶材表面溅射出来 。 该方法可产生具有纳米级精度的高端表面质量，但需要真空条件并且材料去除率相对较低。
因此，离子抛光通常是语荻进行光学元件精密加工的最后一步，可以有效降低半成品元件的表面粗糙度。 这样做可以有效提高批量生产效率并控制生产成本。
语荻离子束抛光技术的优势
使用 IBF 抛光突破了传统抛光方法的限制，使我们能够生产高规格项目所需的对称、非球面或自由形状光学器件。 其结果是高度的工艺灵活性、更短的生产时间和更高的质量。
非接触式抛光
离子束成形是一种非接触式加工技术，不涉及常用的机械抛光工具，从而避免了这些工具可能造成的老化和磨损的影响。
稳定的去除率
离子束整形提供出色的去除率控制。 操作员可以精确控制离子束的能量和流量，确保过程的稳定性和一致性。
无亚表面损伤
离子束抛光加工可以精确地去除材料而不造成表面下损伤，使基材保持其原有的性能和质量。
纳米级精度
离子束成形具有出色的加工精度，可以实现极高的精度，甚至可以在纳米级别操作。